Очистка от механической составляющей, устойчив к воздействию химикатов и бактерий. Рейтинг фильтрации: 5мкм
Очистка от механической составляющей, устойчив к воздействию химикатов и бактерий.Рейтинг фильтрации: 1мкм
Пористость: 5мкм. Стандарт: 20BB. Для холодной и горячей воды.Ресурс: 152000 л. Пр-во: США.
Пористость: 5мкм. Стандарт: 10BB. Для холодной и горячей воды.Ресурс: 83000 л. Пр-во: США.
Упрощенная версия модуля EP-BB 20BB. Пористость: 10мкм. Ресурс: 114000 л
Упрощенная версия модуля EP-BB 10BB. Пористость: 10мкм. Ресурс: 57000 л
Картридж 10ВВ гофрированный механической очистки R-50, 50мкм
Картридж 10ВВ гофрированный механической очистки R-30, 30мкм
Картридж гофрированный механической очистки R-50, 50мкм
Для умягчения воды.Удаляет Ca, Mg, тяжелые металлы.Ресурс: 16000 л
Картридж гофрированный механической очистки R-30, 30мкм
Первый слой: 25мкм, второй: 1 мкм. Мех.очистка. Переменная пористость. Пр-во: СШАРесурс: 15 000 л. Размер: 10ВВ.
Первый слой: 50мкм, второй: 5 мкм. Мех.очистка. Переменная пористость. Пр-во: СШАРесурс: 15 000 л. Размер: 10ВВ.
Первый слой: 75мкм, второй: 25 мкм. Мех.очистка. Переменная пористость. Пр-во: СШАРесурс: 15 000 л. Размер: 10ВВ.
Первый слой: 75мкм, второй: 25 мкм. Мех.очистка. Переменная пористость. Пр-во: СШАРесурс: 30 000 л.
Первый слой: 50мкм, второй: 5 мкм. Мех.очистка. Переменная пористость. Пр-во: СШАРесурс: 30 000 л.
Первый слой: 25мкм, второй: 1 мкм. Мех.очистка. Переменная пористость. Пр-во: СШАРесурс: 30 000 л.